UNITEMP VPO-300 真空处理炉

产品信息

• VPO-300 是自动垂直开闭式真空处理炉。
• 该设备适用于最高 300 x 300 mm 基片尺寸，温度最高 1000°C。
• 灯加热快速热退火 RTA 和快速热处理 RTP 设备使用灯加热，以快速升温和冷却半导体晶圆。

官方特点

• UniTemp RTP 炉采用上下交叉灯阵列。
• 温度分布工具用于获得温度均匀性和工艺重复性。
• 腔体壁可引入不同馈通，例如光学测量窗口、热电偶馈通和气体入口。
• 官网说明由于可快速达到 10E-3 hPa 真空，工艺周期较短。
• 标准腔体高度 50 mm，可选 100 mm 腔体高度和 85 mm x 25 mm 观察窗。