半导体薄膜沉积

先进的TSURUGI Plus-Ⅲ剱是我们沉积工艺设备系列中的顶级型号。该热处理平台能够在结构日益精密和精细的下一代器件上实现高难度沉积和高生产率。由于大幅增加了成膜所需的表面积，并采用了新技术，在结构日益复杂的3D堆叠器件上实现了高难度沉积，因此该平台可以提供高质量的加工。

Advanced TSURUGI剱是一种热处理平台，能够在结构日益精细和复杂的下一代器件上实现高难度沉积和高生产率。它可以通过使用新的反应器提供高质量的处理，在3D堆叠器件上实现高难度的沉积。

TSURUGI-C²®剱®是一种热处理平台，能够在下一代设备上实现高难度沉积和高生产率。它配备了晶圆反应器和其他沉积技术，以实现高质量的处理。

AdvancedAce ® -II是国际电机最新的300mm晶圆批量热处理平台。 AdvancedAce ® -II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。

QUIXACEI®-II是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 QUIXACEI®-II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。

“VERTRON® Revolution”是我们经过验证的 VERTRON® 系列 200 毫米批量热处理系统中的最新产品。客户可以从多种型号中进行选择，以满足他们的需求——从多品种小批量生产到大规模生产。它还与 150 毫米或更小的晶圆兼容。

QUIXACEI ® -LV 是 KOKUSAI ELECTRIC 最新的 300mm 晶圆批量热处理平台。 QUIXACEI ® -LV 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。晶圆装载区的真空负载锁结构大大减少了原生氧化膜和污染，使更高质量的沉积成为可能。

AdvancedAce®-300是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 AdvancedAce®-300 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高吞吐量。

QUIXACE ® 是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 QUIXACE ® 通过利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术来提供高吞吐量。

QUIXACE ULTIMATE ® 是 KOKUSAI ELECTRIC 最新的 300mm 晶圆批量热处理平台。 QUIXACE ULTIMATE ® 通过利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术来提供高吞吐量。

AdvancedAce ® -II是国际电机最新的300mm晶圆批量热处理平台。 AdvancedAce ® -II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。

QUIXACEI®-II是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 QUIXACEI®-II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高吞吐量。

退火（低温、高温和超高温）

AdvancedAce ® -300 是 KOKUSAI ELECTRIC 最新的 300mm 晶圆批量热处理平台。 AdvancedAce ® -300 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高吞吐量。