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Mini Batch Deposition Equipment Advanced TSURUGI 剱
Advanced TSURUGI剱是一种热处理平台，能够在结构日益精细和复杂的下一代器件上实现高难度沉积和高生产率。它可以通过使用新的反应器提供高质量的处理，在3D堆叠器件上实现高难度的沉积。
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薄膜沉积
薄膜沉积
Advanced TSURUGI剱是一种热处理平台，能够在结构日益精细和复杂的下一代器件上实现高难度沉积和高生产率。它可以通过使用新的反应器提供高质量的处理，在3D堆叠器件上实现高难度的沉积。
采用紧凑、优化的晶圆反应器和高排气能力 ー减少负载效应，提高膜厚均匀性 ー提高反应气体净化效率，显着缩短总沉积时间
采用紧凑、优化的晶圆反应器和高排气能力 ー减少负载效应，提高膜厚均匀性 ー提高反应气体净化效率，显着缩短总沉积时间
低颗粒高速晶圆传输系统
低颗粒高速晶圆传输系统
生产率高，占地面积小（与之前水平相比负10%）
生产率高，占地面积小（与之前水平相比负10%）
“剱”标志是国际电气株式会社的注册商标。
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