薄膜沉积

薄膜沉积

先进的TSURUGI Plus-Ⅲ剱是我们沉积工艺设备系列中的顶级型号。该热处理平台能够在结构日益精密和精细的下一代器件上实现高难度沉积和高生产率。由于大幅增加了成膜所需的表面积，并采用了新技术，在结构日益复杂的3D堆叠器件上实现了高难度沉积，因此该平台可以提供高质量的加工。

高性能晶圆反应器 ー独特的设计，减少负载效应，提高膜厚均匀性 ー提高反应气体净化效率，显着缩短总沉积时间

高性能晶圆反应器 ー独特的设计，减少负载效应，提高膜厚均匀性 ー提高反应气体净化效率，显着缩短总沉积时间

高性能供气、排气系统

高性能供气、排气系统

低颗粒和高速晶圆传输自动化

低颗粒和高速晶圆传输自动化

生产率高、占地面积小

生产率高、占地面积小

采用新的控制器和控制方法，实现大容量、高速化

采用新的控制器和控制方法，实现大容量、高速化

可选健康检查功能，收集设备数据并监控设备运行情况

可选健康检查功能，收集设备数据并监控设备运行情况

“剱”标志是国际电气株式会社的注册商标。