Large Batch Deposition Equipment QUIXACE®-II
QUIXACEI®-II是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 QUIXACEI®-II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。
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薄膜沉积
薄膜沉积
CVD/氧化膜沉积
CVD/氧化膜沉积
QUIXACEI®-II是KOKUSAI ELECTRIC最新的300mm晶圆批量热处理平台。 QUIXACEI®-II 利用温度控制、晶圆处理自动化、反应器净化等领域的先进技术提供高产量。
实现高生产率：一次性处理大批量提高 1.25 倍（*）（* 与以前的型号相比）
实现高生产率：一次性处理大批量提高 1.25 倍（*）（* 与以前的型号相比）
能够将保形薄膜放入深沟槽中
能够将保形薄膜放入深沟槽中
实现了高精度、高质量的低温成膜
实现了高精度、高质量的低温成膜
健康检查功能（选配）
健康检查功能（选配）
QUIXACE 是国际电机株式会社的注册商标。
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