产品信息

晶圆分析仪 CVP21 是一款方便的工具，可在半导体研究或生产中通过电化学电容电压分析（ECV 分析、CV 分析）来测量半导体层中的掺杂分布。

此外，该 ECV Profiler（CV-Profiler、C-V-Profiler）是分析或开发半导体光电化学湿法蚀刻（PEC-Etching）策略的绝佳选择。

CVP21 支持完整的材料系列：IV 族半导体，如硅 (Si)、锗 (Ge)、碳化硅 (SiC)、III-V 半导体、氮化物、II-VI 半导体以及不太常用的半导体。

样品尺寸：标准尺寸为 4*2 mm² 至完整的 8" 晶圆尺寸（可根据要求提供更小的样品）。

浓度分辨率 < 10^12 cm-3 至 > 10^21 cm-3。

深度分辨率 1 nm 至 100 µm。

CVP21 可以作为桌面单元交付，也可以以 60*80 厘米的占地面积交付，以最大限度地减少洁净室的空间需求。

CVP21安装要求：氮气或干燥空气，可调压力2..5巴，排气，真空通常为0.2巴，230V(-15%/+10%)，50-60Hz，500VA-1000VA。