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4D - 4 Point Probe
行业标准薄层电阻率
科桥实验提供 Toho Technology 4D - 4 Point Probe 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。

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4D - 4 点探头
行业标准薄层电阻率
四点探针系统,用于测量多种材料的薄层电阻率,包括 IV 族半导体、金属和化合物半导体,以及平板显示器和硬盘中的新材料。四维四点探头使用两个电流供电探头和两个电压传感探头,可对各种材料提供高精度且可重复的薄层电阻率和厚度测量。该系统具有用户友好的“一键式”操作和自动校准功能。能够在 90 秒内测量 50 个位置,测量范围从 1mΩ/sq 到 800kΩ/sq,最高可达 8E11Ω/sq。
应用领域
P/N 型式测试
硅基板
外延层
离子注入剂量和均匀性
多晶硅电阻率和厚度
金属沉积监测仪
硅化物过程监控器
离子注入扩散
多晶闸门过程监控器
金属
多晶硅、非晶硅
规格
适用晶圆尺寸:50、75、100、125、200 毫米
测试直径:距晶圆边缘最大 3mm
测量范围:1mΩ/sq.至 800kΩ/平方。或 8E9 Ω/平方。
测量单位:Ω/sq.、Ω-cm、V/I、μ [T]、Å[T]
测量重复性:<0.2%(典型值)
快速检查:1、5、9 个站点 | 5、6、9、10、13 站点 ASTM/SEMI | X 模式或自定义站点
笛卡尔地图:任意位点间隔≥0.1 mm,最多 6000 个位点
电子精度:<0.1%(精密电阻)
电流分辨率:16 位 A/D
测量顺应电压:125V
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