产品信息

行业的优质选择：MaskTrack Smart BD 结合了尖端技术、最大产量和卓越的多功能性，在整个烘焙和开发领域提供世界一流的结果。

下一代光刻的一体化解决方案

MaskTrack Smart BD 为尖端光刻树立了新标准。智能自动化、模块化适应和出色的性能确保在一个平台上根据行业标准实现最佳结果、高度多功能性和可靠的高产量生产，最高可达 32 nm 以下掩模。

体验您所需的自动化边缘：干式翻转和低接触处理确保精确、轻柔的传输。多个 I/O 站简化了生产，同时在线网络摄像头监控提供了实时控制。

准确一致的结果：自动化算法精确控制光掩模表面温度 (90°C - 130°C)，以满足您的精确目标 CDmean。内置反馈回路使用实时 CD 数据不断提高均匀性，保证可靠、高质量的性能。

卓越的质量和掩模寿命：A+喷嘴低冲击点胶技术可实现快速、均匀的表面润湿和介质交换，最大限度地减少缺陷并提高整个基材的 CD 均匀性。

我们的系统专为无缝集成而设计，符合严格的行业标准。它符合 SEMI S2、S8 和 S13 标准，具有 CE 标志，专为 DIN EN ISO 14644 2 级受控环境而设计。配备标准 SECS/GEM 200/300 mm 接口，可立即实现工厂自动化。

精良制造

MaskTrack 智能 BD 光掩模系统的主要特点

掩模存储、处理或加工：MaskTrack Smart BD 确保最复杂的光掩模制造在完全受控且极其清洁的环境中实现工业规模的高产品完整性。

智能热板系统可在平均温度升高和目标温度下实现光掩模表面的精确温度均匀性，确保最佳的曝光后烘烤和高质量结果。

声流实现卓越显影：通过使用 MegaSonic 能量激发表面，ASONIC-Technology® 增加显影剂介质交换，实现均匀利用率和改进 CD 均匀性。

在 2 级认证环境中进行生产：特殊的物理和湿化学清洁方法可有效去除颗粒和污染物，提供符合 DIN EN ISO 14.644 标准的超清洁条件。智能工艺可确保低至 1x nm 半间距的光掩模完整性，并向后兼容 90nm。