产品信息

最大限度提高产量和质量：ASx 系列是一款全自动光掩模处理平台，可在一个系统中对 250 nm 至 65 nm 晶圆进行高级烘烤、抗蚀剂剥离和清洁以及开发工艺。

卓越的性能，紧凑的设计

ASx 系列将行业领先的精度与最高的可靠性和性能相结合，可应对暴露于 248nm 和 193nm 光刻的掩模无缺陷处理的关键挑战。所有这一切都具有卓越的清洁效率和无与伦比的拥有成本。

ASx 系列凭借其卓越的一次通过清洁率，凭借经过行业验证的清洁技术，延长了掩模寿命并降低了生产成本。

占地面积紧凑：ASx 系列尺寸为 1200 × 1200 毫米，可实现最大的空间利用率和更低的拥有成本，而不会影响卓越的处理性能。

先进的烘焙技术符合 14 纳米及以上节点的要求，可确保光掩模满足下一代光刻应用最苛刻的规格。

具有集成高级曝光后烘烤 (AEP)、化学过滤、精确气候控制和监控功能的集群设计可确保高度受控的 PEB 步骤，从而确保最大的工艺稳定性、可靠的结果和卓越的掩模质量。

工程精度与卓越制造的结合

ASx 系列光掩模加工平台的主要特点

ASx 系列通过智能温度控制、自动化流程优化和缺陷最小化开发技术提供毫不妥协的技术性能，从而将复杂的光掩模处理转变为一致的、行业领先的结果。

智能热板系统可在平均温度升高和目标温度下实现光掩模表面的精确温度均匀性，确保最佳的曝光后烘烤和高质量结果。

内置算法自动在 90 – 130 °C 范围内微调烘烤性能，确保精确的 CD 平均目标控制和一致的掩模质量。

A+ 喷嘴分配系统将显影剂均匀地分布在整个掩模上，同时主动脱气可防止微气泡，从而确保最小的缺陷和最大的产量。