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Phoenix – Batch Production ALD
软件精确控制工艺参数，包括温度、流量和压力，即使在最敏感的基材上也能获得无缺陷的涂层
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生产能力
主要特点包括：
软件精确控制工艺参数，包括温度、流量和压力，即使在最敏感的基材上也能获得无缺陷的涂层
获得专利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉积物积聚并最大限度地减少过量工艺气体排放到环境中
大型处理室可接受 GEN 2.5 基板、多个晶圆盒和更大的 3D 物体
拥有成本低，启动和运营成本最低
占地面积紧凑，节省宝贵的洁净室空间
标准配方和 ALD 材料随时可用
符合 CE、FCC 和 CSA 标准，具有许多内置安全功能
技术规格
财务信息
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