NEXUS PVDi 物理气相沉积 系统

产品信息

灵活的沉积平台服务于广泛的应用

Veeco 的单靶 NEXUS PVDi 物理气相沉积系统为各种薄膜沉积应用提供最大的灵活性。 NEXUS PVD ​​的厚度为 200mm，具有先进的工艺能力、无与伦比的均匀性和多种沉积模式。

无与伦比的可靠性和均匀性有助于提高工艺产量

更高的吞吐量和正常运行时间可降低拥有成本

NEXUS 平台集成了广泛的 Veeco 技术，例如离子束沉积、离子束蚀刻和原子层沉积

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