
设备资源
正在整理可询价设备
同步核对品牌、型号、图片和应用方向,保持产品浏览与询价路径清晰。
实验室仪器半导体设备型号检索












设备详情
准备主图、规格、应用信息和相关设备入口,方便继续核对型号。









TohoSpec 3100
精确的膜厚测量
科桥实验提供 Toho Technology TohoSpec 3100 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。

微信扫码咨询
扫码添加技术顾问,发送产品型号、设备图片或应用需求。
东邦规格 3100
精确的膜厚测量
TohoSpec 3100 是一种低成本薄膜厚度测量系统,采用建立在易于使用的桌面平台上的现代小光斑光谱反射仪。该系统融合了从市场领导者 Nanometrics 获得的核心技术,专为各种研发应用而设计。可靠的固态线性二极管阵列可快速、精确地测量单层薄膜(例如氧化物、氮化物和光刻胶)以及厚度范围为 100Å 至 30μm 的最多 3 层薄膜叠层的顶层。这款坚固而精确的系统具有出色的价值,配备多达 15 种标准薄膜厚度测量算法,在世界各地的实验室中使用,以紧凑的设计提供精确的薄膜厚度测量。
应用领域
TohoSpec 3100 is designed to provide accurate film thickness measurements within a vast array of applications.
保证 3 层测量,在某些情况下超过 3 层,具体取决于参数。测量具有一定反射率的最光滑或半光滑表面
太阳的
平板显示器/液晶显示器
有机发光二极管
光掩模
功率器件
HDD磁头
规格
表现
胶片叠层/胶片数量
最多 3 层
波长范围
380 -800 nm(标准) 380 -850 nm(厚膜)
重复性
薄膜类型 / n 和 k 值
获得
测量时间
0.1 至 25 秒/站点 (3100) 0.01 至 2.5 秒/站点 (3100 T)
数据管理
统计数据分析、数据导出(ASCII)
Hardware Configuration
晶圆尺寸
载物台可处理 3、4、5、6、8 英寸晶圆
Head Unit
反射计线性阵列
请填写必填信息,我们将在工作日尽快回复。