Glancing Angle Deposition for Precise Nanostructures
借助 scia Eva 200，可以通过电子束 (e-beam) 蒸发在最大 200 mm 的晶圆上沉积致密、超纯的涂层。可选离子束源。
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借助 scia Eva 200，可以通过电子束 (e-beam) 蒸发将超纯涂层沉积在最大 200 mm 的晶圆上。该系统可在坩埚袋中容纳多达 12 种目标材料，并可配置单晶圆装载锁或全自动晶圆盒处理。此外，该系统占地面积非常小，并且可以集成离子束源进行预清洁。
特点和优点
基板支架可精确倾斜和旋转，规定的入射角可调
高温材料和难熔金属蒸发的高沉积速率
水冷多口袋旋转坩埚中最多可容纳 12 种蒸发材料
用于预清洗的可选离子束源
可变集群布局中的全自动包埋盒处理，包括 SECS/GEM 通信
具有单基板装载锁的单室
应用领域
GLAD 原理（左）和沉积硅纳米结构的 SEM 图片（右）由内布拉斯加大学提供
纳米结构薄膜层的掠射角沉积 (GLAD) 用于生产光电极以实现高效燃料发电
用于气体分析仪和智能应用的检测和光谱的红外发射器
基材金属化
介电涂层
光学镀膜
原则
电子束（E-beam） 蒸发电流通过钨丝引起电子发射，电子在高电压的作用下加速形成电子束。磁场使电子束偏转，使其聚焦到坩埚中。这导致靶材蒸发并沉积在基材上。
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