产品信息

NAP-XPS是一种可在近常压（通常为1-25 mbar）环境下进行材料表面化学状态原位分析的仪器，突破了传统XPS仅能在超高真空（UHV）下工作的限制。其核心功能包括动态监测材料在反应气氛（如气体、蒸汽或电化学环境）中的表面元素组成、化学价态及电子结构变化.

近常压X射线光电子能谱仪/NAP-XPS

技术参数：

1近常压XPS真空系统，包含分析腔和快速进样腔

1.1 分析腔采用μ金属腔体或不锈钢腔体加消磁线圈

1.2 分析腔配备分子泵以及前级泵，真空≤5×10-9 mbar

1.3 快速进样腔采用不锈钢腔体

1.4 快速进样腔配备分子泵和前级泵，真空≤5×10-8 mbar

2电子能量分析器

2.1 半球型，平均半径150 mm

2.2四级差分抽气系统，一级和二级差分抽气之间配有阀门，可以实现真空腔体进气时保证分析器的真空度

2.3工作压力最大可达25 mbar

*2.4分析器接收角：≥44o

2.5 工作距离 300-500μm

2.6 七个入口狭缝，三个出口狭缝

2.7 能量分辨率 ≤10 meV

2.8探测能量范围可达3.5 keV

2.9 Ag 3d峰计数率（在Al靶X光源束斑≤250 μm, 20 W条件下）：

≥70 kcps在UHV条件；≥7 kcps 在10 mbar N2条件；≥0.5 kcps在25 mbar N2条件

2.10 配有一维探测器（ADCMOS）

3 单色化阳极靶微聚焦X射线光源

3.1 类型：单色化Al/Ag/Cr三阳极靶

3.2工作范围：10-10 – 25 mbar

3.3 Al靶光斑尺寸： ≤ 200 μm

3.4 Al靶光通量≥1.0x1010 photons /s; Ag靶光通量≥1.0x109 photons/s，Cr靶光通量≥1.0x1010 photos/s

3.5 配有差抽系统

3.6 配套水冷机组，最大水压可达9 bar

4 进气气路

4.1配有三路进气管路系统，配备质量流量计，用于气体通入

4.2带有自动压力控制，压力范围：1-30 mbar

5 分析腔四轴全自动样品架

5.1四轴样品架移动范围：

X = ±15 mm

Y = ±15mm

Z 方向范围随系统配置

P = ±180° polar（极角）

5.2 四轴全自动化马达

5.3配备90 W红外激光加热器，在25 mbar N2条件下，样品温度最高可达2000 ℃

5.5 配有液氮冷却，样品最低温度可到150 K

6. 紫外光源

6.1 束流密度＞2x1016 photons/(sec x sterad)

6.1 能量分辨率：FWHM＜2meV

6.3 可用气体：He、Ne、Ar等

6.4 样品上束斑尺寸：＜500μm

6.5 可在近常压环境下进行UPS测试；

7 荷电中和枪

7.1能量范围不小于1 eV-500 eV

7.2束流可达1 mA

7.3配备自动荷电中和软件包

8 团簇离子源

8.1 双模式，包括单粒子模式和团簇模式；

8.2 刻蚀能量最大可达20keV

8.3 刻蚀束流可达1μA

8.4 Ar离子团簇个数最大可达3000个

9 光学相机，用于样品位置观测，视场可选范围10 mm – 100 mm，分辨率可达50 μm

10. 残余气体分析质谱仪，质量范围：1-200 amu，配备法拉第杯和二次电子倍增器

11.原位动态电化学反应池

11.1 配备三电极和两个电解液管道，以进行固液界面电化学反应的实时测试；

11.2 样品放置在四轴样品架上

11.3 气压范围：2-1000 mbar