步进重复纳米压印光刻系统

用于高效母版制造的分步重复纳米压印光刻

EVG770 NT 是一款用于分步重复 (S&R) 纳米压印光刻的多功能平台，可实现高效的母版制造或在基板上直接图案化复杂结构。这种方法可以实现从尺寸最大为 30 cm² 的小芯片的模板的统一复制。 S&R 工艺允许在大面积（高达第二代面板尺寸的基板）上多次复制这些芯片。与金刚石车削或直接写入方法相结合，S&R 压印经常用于高效制造晶圆级光学制造或 EVG 的 SmartNIL 工艺所需的母版。因此，它通常是大批量制造增强现实波导、光学传感器、衍射光学、超表面或生物医学设备的关键先决条件。

EVG770 NT 的主要特性包括精确对准功能、完整的过程控制以及满足各种结构和材料的过程要求的灵活性。

特征

用于晶圆级光学器件直至 SmartNIL® 纳米结构的微透镜的高质量母版制造

有效缩放至大基板尺寸直至面板尺寸

不同类型master的简单实现

可变抗蚀剂分配模式

点胶、压印和脱模过程中的实时图像