EVG®7300

多功能紫外纳米压印光刻系统

多功能 UV 纳米压印光刻系统，直径可达 300 毫米，采用 SmartNIL® 技术，将透镜成型和透镜堆叠集成在一个工具中

多功能 EVG®7300 UV 纳米压印光刻系统可以支持多种相关的 UV 工艺：SmartNIL、晶圆级光学器件 (WLO) 和堆叠——三种功能合并在一个灵活的工具中。

它是一个基于模块化和改进的 SmartNIL 模块的独立系统，可以根据处理和自动化水平进行配置。 EVG®7300 支持从 150 mm 到 300 mm 的晶圆尺寸，并具有低至 300 nm 的高精度对准、先进的工艺控制和高吞吐量，可以满足各种自由曲面和高精度纳米和微米光学元件和器件的高级研发和大批量制造 (HVM) 需求。由于 HVM 环境中集成预处理和后处理流程的必要性，该模块可以集成到 HERCULES NIL 系统中。

该多功能系统旨在服务于各种新兴应用，包括微米和纳米压印以及功能层的紫外线堆叠。因此，该设备能够增强晶圆级光学 (WLO)、纳米光子学、超表面和生物医学芯片的工艺性能。这与行业对新型光学传感器和光电器件的需求密切相关，以实现例如自动驾驶、汽车和装饰照明中的微透镜阵列和投影仪、用于生物识别认证的衍射光学以及复杂元透镜的新兴趋势。目前，利用该技术的首批应用已经存在于先进生物医学设备和增强现实波导领域，其中纳米压印可以实现复杂设计的高质量制造。

特征

灵活性：UV-NIL 系统在一个工具中实现三种 UV 工艺：SmartNIL、WLO 和堆叠 精确控制的多步骤工艺，包括对准、接触和 UV 固化 用于 SmartNIL 和 WLO 的低力自动印模分离

精确控制的多步骤过程，包括对准、接触和紫外线固化

适用于 SmartNIL 和 WLO 的低力自动印章分离

可扩展性：可处理最大 300mm 基板的晶圆