大面积 SmartNIL® 紫外纳米压印光刻系统

适用于大面积面板的紫外纳米压印光刻系统

EVG7200 大面积 UV 纳米压印系统可将纳米压印光刻 (NIL) 缩放至面板尺寸 (Gen) 基板，并配备最新发展的 SmartNIL 技术。对于显示器、线栅偏振器、生物技术和光子元件等尺寸无法减小的应用来说，通过增加图案面积来提高基板利用率至关重要。 NIL 已被证明是在大面积上制造纳米图案的最具成本效益的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为最小的结构提供最佳的图案保真度。

SmartNIL 利用非常稳健且可控的加工工艺提供低至 40 nm* 的卓越保形压印结果。凭借独特且经过验证的设备功能（包括无与伦比的易用性）以及高水平的工艺专业知识，EVG 通过将纳米压印提升到新的水平来满足行业需求。

*分辨率取决于流程和模板

特征

专有的 SmartNIL® 技术可在大面积上提供无与伦比的保形压印

卓越的复制保真度和均匀性

多用途聚合物工作印模技术可实现最长的母版寿命并显着节省成本

稳健且精确可控的处理