智能 NIL® 紫外纳米压印光刻系统

具有 UV 纳米压印光刻功能的掩模对准系统，采用 EVG 专有的 SmartNIL® 技术，最大可达 100 毫米

EVG620 NT 以其灵活性和可靠性而闻名，在最小的占地面积上提供了最先进的掩模对准技术。操作友好的软件、最短的掩模和工具更换时间以及高效的全球服务支持使它们成为任何研发环境直至半自动批量生产的理想解决方案。该工具支持各种标准光刻工艺，例如真空曝光、软曝光、硬曝光和接近曝光模式。此外，还支持 EVG 专有的 SmartNIL 技术。

SmartNIL 是业界领先的 NIL 技术，能够对小至 40 nm* 以下的极小特征以及各种结构尺寸和形状进行图案化。 SmartNIL 与多用途软冲压技术相结合，可实现无与伦比的吞吐量和相当大的拥有成本优势，同时保持可扩展性和易于维护的操作。 EVG 的 SmartNIL 兑现了纳米压印作为大规模制造微米级和纳米级结构的低成本、大批量替代光刻技术的长期承诺。 *分辨率取决于流程和模板

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准平台

自动楔块补偿序列

电动和配方控制的曝光间隙

支持最新的UV-LED技术