紫外纳米压印光刻系统

具有 UV 纳米压印光刻能力的掩模对准系统，尺寸范围从小件到 150 毫米

该工具支持各种标准光刻工艺，例如真空、软曝光、硬曝光和接近曝光模式，并可选择背面对准。此外，该系统还提供传统的 UV 纳米压印光刻（软 UV-NIL），并允许快速处理和重新加工，以满足不断变化的用户需求，光刻和 NIL 之间的转换时间仅为几分钟。其先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的需要，从而使其成为大学和研发应用的理想选择。

特征

顶侧和底侧对齐能力

高精度对准平台

自动楔块误差补偿机制

电动和配方控制的曝光间隙

支持最新的UV-LED技术

最小化系统占用空间和设施要求