光刻轨道系统

HERCULES® 是一款大容量平台，将整个光刻工艺流程集成在一个系统中，减少了工艺占地面积和操作员支持。

HERCULES 基于模块化平台，将 EVG 成熟的光学掩模对准技术与集成晶圆清洗、抗蚀剂涂覆、烘烤和抗蚀剂开发模块相结合。 HERCULES 可对各种晶圆尺寸进行盒式到盒式处理。 HERCULES 可以安全地处理厚的、高度弯曲的、矩形的、小直径的晶圆，甚至是设备托盘。精确的顶侧和底侧对准以及亚微米至超厚（最多 300 微米）抗蚀剂涂层可应用于层间和钝化应用。卓越的对准平台设计可在高吞吐量下实现高精度的对准和曝光结果。

特征

生产平台以最小的占地面积结合了 EVG 精密对准和光刻胶处理系统的所有优势

多功能平台支持各种基板形状、尺寸、高度翘曲的模具晶圆甚至托盘的全自动处理

高达 52,000 cP 的涂层可制造高度高达 300 微米的超厚抗蚀剂特征

CoverSpinTM 旋转盖可降低抗蚀剂消耗并优化抗蚀剂涂层均匀性

OmniSpray® 涂层可优化高形貌表面的涂层

NanoSpray® 用于通孔结构的涂层和保护