RETICLE iBSD 离子束溅射沉积

产品信息

RETICLE® iBSD

我们的标线®

离子束溅射沉积系统经过专门设计和制造，可制造具有最高纯度、密度和稳定性的精密光学薄膜。 Angstrom Engineering 的 Reticle®

系统为那些希望将任何光学设计转化为高性能薄膜的人们提供了交钥匙解决方案。

当精度至关重要时，RETICLE® 就能满足您的需求。

这是抗反射 (AR) 涂层、高反射 (HR) 涂层、激光二极管棒涂层、电信滤光片和氧化钒沉积等应用的理想系统。

安斯特罗姆工程®

设计和设计每个 Reticle® 平台，使我们的光学界合作伙伴能够以高度可重复和自动化的方式生产他们所需的具有出色纯度、密度和均匀性的薄膜。

十字线®

采用离子束溅射沉积 (IBSD)，其中高能离子聚焦束加速射向包含待沉积材料的目标。离子束聚焦光学器件的周到设计将离子束完全限制在目标区域，消除了任何污染风险。

IBSD 工艺产生沉积材料的高能通量，与通过蒸发工艺沉积的薄膜相比，薄膜具有更高的密度、硬度和表面粗糙度。

IBSD 在高真空环境中进行，最大限度地减少沉积膜中的惰性气体夹杂物，并提高涂层的环境稳定性。

IBSD 工艺还可以采用二次离子源进行基板清洁和能量辅助、用于反应沉积的基板加热以及用于临界层厚度终止的原位光学监测或椭圆测量。

工艺具体优势

薄膜质量

沉积离子源

Reticle® 采用一系列网格 RF-ICP 离子源进行高能沉积。

可用的离子源包括 4、10、14 和 22 cm 网格配置，离子能量高达 1200 eV，束电流大于 1000 mA。