ALD 单原子层沉积系统

产品信息

ALD One®

我们先进的原子层处理平台可提供卓越的精度和工艺灵活性。该平台旨在突破薄膜工程的界限。

无论是用作独立平台还是无缝集成到集群系统中，我们的 ALD 解决方案均专为可扩展性、可靠性和实时流程优化而设计。

特性和功能

单机&集群集成

可扩展用于高通量试验或商业规模制造。

膜厚均匀度

对于 Al2O₃ 上的热 ALD，±1% (1σ)

ø200 毫米晶圆。

先进的现场监控

通过椭圆光度法和石英晶体监测进行实时薄膜生长跟踪。

基材兼容性

最大Ø300毫米晶圆或210毫米×210毫米（M12/G12）太阳能晶圆。

手套箱集成

敏感材料的受控环境。

空心阴极设计

等离子源

清洁、无氧氮化工艺。