线性溅射系统

产品信息

该系列线性溅射 PVD ​​系统可在大型基材上实现高产量生产，可无缝集成到更大的生产工具集群中，并提供令人印象深刻的均匀性。

将您的产品推向市场的工具。

使用线性溅射 PVD 系统

安斯特罗姆工程®

允许您在显示、光伏和半导体应用中处理大面积面板上的半导体或金属薄膜。我们设计这些系统是为了解决研究人员在大面积或大量基材上溅射时面临的挑战。

从气流和等离子体管理到磁控管均匀性和温度控制，Angstrom Engineering® 的线性溅射 PVD 系统可让您彻底改变您的工作流程，并获得比以前更高的产量。

在非常大的基板上创建器件，在单次运行中堆叠多个层，并且具有良好的均匀性。

尽管目标比平常更大，但材料的利用效率很高。

先进的过程控制软件

PC/PLC 控制的配方适用于单一、批量或自动化流程。

先进的数据记录和流程跟踪确保流程的一致性和可重复性。

高分辨率控制提供了令人印象深刻的低速率稳定性和一致的掺杂比。

中央控制站管理每个模块并调度每个室中的进程。

多个室的独立控制（如果适用）。

可以轻松创建和修改复杂的配方。

自动 PID 控制回路调节可显着缩短工艺开发时间。