产品信息

设计和制造满足石墨烯和CNT研究的高温和快速冷却要求，

Angstrom 工程公司®

LPCVD（低压化学气相沉积）系统非常适合您的实验室。

研究和利用石墨烯和碳纳米管所需的工具。

我们设计了一款水冷炉，可以在 10 分钟内达到 1100°C，并在短短 2 分钟内冷却到 800°C 以下。

确保受控的石墨烯生长，低压化学气相沉积系统将处理时间降至最低。 Ø 2 英寸至 Ø 8 英寸之间有各种腔室管尺寸可供选择，允许处理单个小样品，最多可处理 6 英寸晶圆的批量样品。

工艺具体优势

反应堆

Ø 50 mm-Ø 200 mm 石英管腔室

可根据需要互换各种尺寸的石英管

可容纳尺寸达 150 毫米 x 150 毫米的单个或多个基材

上游端法兰可快速连接至气体歧管

下游端法兰可快速连接泵送和计量

温度/压力控制

低压化学气相沉积系统采用单区石英灯炉，具有 6 英寸均匀温区

自动调节功能提供非常稳定的温度控制

10分钟内快速加热至1100°C

2 分钟内从 1100°C 快速冷却至 800°C