IMPULSE+ 系统旨在在 CMP 工艺模块中提供薄膜测量、保真度和生产率。它可作为集成或独立平台提供，具有高灵敏度和准确性。

产品概述

IMPULSE+ 系统是一种集成计量标准，可为 CMP 工艺偏差提供高灵敏度和准确性，并使设备制造商能够建立具有高精度反馈的 APC 控制。 IMPULSE+ 系统与 Atlas® 平台结合使用，促进跨模块工艺优化和全面的晶圆厂工艺控制。

IMPULSE+ 系统基于源自我们独立 Atlas® 平台的通用光学设计，具有卓越的深紫外 (DUV) 光学器件。通过应用 Atlas 平台的频谱前馈，可以利用这一独特的生态系统来提高信噪比，并通过人工智能驱动的机器分析进一步增强。这种组合为 CMP 工艺工程师提供了管理偏差和推动工艺改进 (Cpk.) 的强大能力。

IMPULSE+ 系统在 DRAM、3D-NAND、CMOS 图像传感器和代工/逻辑器件制造的关键步骤中得到广泛采用。难以衡量。

应用领域

特色市场

Onto Innovation 获得领先 DRAM 制造商计量产品套件的批量采购协议

具有集成计量功能的智能线路监测与控制

通过互联计量方法增强 CMP 工艺控制，该方法将数据从独立 OCD 或薄膜计量反馈到通过 AI 驱动的分析软件连接的集成计量。这种方法由先进的建模和分析工具提供支持，可以提供高精度、高通量的结果，最大限度地减少或消除对新 TEM 数据的需求和成本，并加快解决方案时间、加快偏移检测、降低成本并提高 Cpk。

通过智能生产线监控和集成计量增强 CMP 工艺控制

随着半导体制造商在高性能计算和人工智能应用的推动下不断突破性能和功能的界限，化学机械平坦化 (CMP) 工艺的强度复杂性不断增加。新的逻辑晶体管设计、3D NAND 堆叠和 DRAM 集成引入了更多 CMP 层和更严格的工艺窗口。

IMPULSE® V 系统

IMPULSE V 系统通过增强的波前技术和人工智能驱动的分析来帮助推进 CMP 处理，提供超过 2 倍的精度改进和更快的解决方案，这对于下一代半导体制造需求至关重要。

Atlas® V 系统

Atlas V 系统是一款用于大批量制造的 OCD 和薄膜计量工具，可实现 FinFET 和环栅 (GAA) 逻辑、DRAM 和 3D NAND 器件工艺控制。

Atlas® III+ 系统

Atlas III+ 系统为成熟技术提供可靠的 OCD 和薄膜计量，在各种工艺层和设备类型中具有灵活的性能。