快速热处理与真空工艺

RTP-100 是前装载式快速热真空处理炉，官网列出升温速率最高 150 K/sec，适用于最高 100 mm 单片晶圆或 100 mm x 100 mm 基片。

RTP-150 是前装载式快速热真空处理炉，官网列出升温速率最高 75 K/sec，适用于最高 150 mm 单片晶圆或 156 mm x 156 mm 基片。

RTP-200 是可带或不带高真空配置的快速热真空处理炉，官网列出适用于最高 200 mm（8 英寸）单片晶圆。

VPO-300 是自动垂直开闭式真空处理炉，官网列出适用于最高 300 x 300 mm 基片尺寸，温度最高 1000°C。