概要

RIE-300NR是一种理想的反应离子蚀刻系统，适用于加工ø300mm晶圆和多晶圆（ø3"×12，ø4"×8等），具有优异的均匀性。该系统的设计旨在最大限度地减少工厂空间需求，提高产量，最大限度地延长正常运行时间，并通过可靠的硬件和便捷的服务降低拥有成本。

主要特点和优点

• 最大加工范围：ø350 mm (ø3" x 12, ø4" x 8, ø12" x 1)
• 用户友好的触摸屏界面
• 全自动 "一键式 "操作，可完全手动操作。
• 优化的喷淋头可提供工艺气体的均匀性。
• 减少停留时间的近距离耦合气体输送箱。
• 对称的疏散设计与TMP相结合，形成了有效的流动。
• 自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。
• 干式泵和系统布局便于维护。

应用

• 去除夹层膜，用于ø300mm的失效分析。
• 蚀刻Si、SiO2、SiN和聚硅氧烷。
• 树脂的蚀刻和脱胶
• 光阻剂的灰化、剥离和除尘。
• 表面改性（润湿性和粘附性的改善