RIE等离子蚀刻设备 RIE-10NR

概要

RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能的全自动反应离子蚀刻系统，它能满足非腐蚀性气体化学最苛刻的工艺要求。计算机化的触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。该系统可实现精确的侧壁轮廓控制和材料间的高蚀刻选择性。RIE-10NR具有时尚、紧凑的设计，需要最小的洁净室空间。

主要特点和优点

• 最大加工范围：ø220 mm (ø3" x 5, ø4" x 3, ø8" x 1)
• 高选择性各向异性蚀刻满足苛刻的工艺要求。
• 全自动 "一键式 "操作，可完全手动操作。
• 计算机触摸屏为参数控制和存储提供了一个用户友好的界面。
• 自动压力控制，可精确控制工艺压力，不受气体流量影响。
• 干式泵和系统布局便于维护。
• 可靠和耐用的系统，全球安装了400多个系统。

应用

• Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide等各种材料的蚀刻。
• 故障分析中的选择性层蚀刻
• 光阻剂的灰化、剥离和除尘。
• 表面改性（润湿性和附着力的改善）