设备资源
正在整理可询价设备
同步核对品牌、型号、图片和应用方向，保持产品浏览与询价路径清晰。
实验室仪器半导体设备型号检索
设备详情
准备主图、规格、应用信息和相关设备入口，方便继续核对型号。
PD-2201LC
PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。 该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
科桥实验提供 Samco PD-2201LC 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。
微信扫码咨询
扫码添加技术顾问，发送产品型号、设备图片或应用需求。
PD-2201LC 是一种盒式装载等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 设备，能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）。 该系统在节省空间的前提下提供了PECVD的所有标准功能。可在直径220毫米的区域内沉积具有优异厚度均匀性和应力控制的薄膜，并具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面，用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
请填写必填信息，我们将在工作日尽快回复。
