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RIE-300NR
RIE-300NR 是一款用于 ø300 mm 晶圆和多片晶圆处理的反应离子蚀刻系统,可实现良好的均匀性。该系统设计重点包括减少工厂空间需求、提升通量、提高正常运行时间,并通过可靠硬件和便捷维护降低拥有成本。
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RIE-300NR 是一款用于 ø300 mm 晶圆和多片晶圆处理的反应离子蚀刻系统,可实现良好的均匀性。该系统设计重点包括减少工厂空间需求、提升通量、提高正常运行时间,并通过可靠硬件和便捷维护降低拥有成本。
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