CCP-RIE 等离子蚀刻设备 RIE-300NR

Name: CCP-RIE 等离子蚀刻设备 RIE-300NR
Brand: Samco
SKU: https://www.samco-plasma.cn/products/etching/ccp_rie/CCP-RIE_Plasma_Etcher_RIE-300NR.php
Availability: InStock

RIE-300NR

RIE-300NR 是一款用于 ø300 mm 晶圆和多片晶圆处理的反应离子蚀刻系统，可实现良好的均匀性。该系统设计重点包括减少工厂空间需求、提升通量、提高正常运行时间，并通过可靠硬件和便捷维护降低拥有成本。

品牌: Samco产地: 日本价格: 面议服务区域: 全国

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概要

主要特点和优点

可处理最大 ø350 mm 样品（ø3 英寸 x 12、ø4 英寸 x 8、ø12 英寸 x 1）。
用户友好的触摸屏界面。
良好的蚀刻均匀性。
面向 300 mm 晶圆和多片晶圆处理。

应用

ø300 mm 晶圆失效分析中的层间膜去除。
Si、SiO2、SiN 和 Poly-Si 的蚀刻。

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CCP-RIE 等离子蚀刻设备 RIE-300NR

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