概要

RIE-10NR 是一款低成本、高性能、全自动的反应离子蚀刻系统，可满足非腐蚀性气体化学工艺的严苛需求。计算机化触摸屏提供了便于使用的参数控制和存储界面。该系统能够实现准确的侧壁轮廓控制，并在不同材料之间实现高蚀刻选择性。凭借紧凑设计，RIE-10NR 对洁净室空间的占用较小。

主要特点和优点

• 可处理最大 ø220 mm 样品（ø3 英寸 x 5、ø4 英寸 x 3、ø8 英寸 x 1）。
• 高选择性各向异性蚀刻，可满足严苛工艺需求。
• 触摸屏界面便于操作。
• 紧凑的占地面积。

应用

• Si、SiO2、SiN、Poly-Si、GaAs、Mo、Pt、Polyimide 等多种材料的蚀刻。
• 失效分析中的选择性层蚀刻。