薄膜材料与真空工艺研究应用方案

关联产品

The HEX Series

我们系统的开放式框架设计是 HEX 系列灵活性的基石。无论您的应用是什么，或者您的研究方向如何，HEX 系列都可以轻松调整或重新配置以适应需要。

FISSION - Magnetron Sputtering

FISSION 系列直流和射频磁控管系统允许用户在薄膜直流和射频溅射之间切换，无需专用工具或长时间停机进行设置调整。 FISSION 沉积源与模块化 HEX 系统无缝集成，该系统利用快速释放连接器进行冷却和水连接，使设置变得简单快捷。

TAU - Electron Beam Evaporation

TAU 电子束蒸发源是一种“迷你”源，这意味着它不使用其他大型源中的光束弯曲磁铁。 TAU 在目标材料上产生高电压，同时利用钨丝发射器上的低电压产生直接加热和蒸发效应。

HEX Steel

尽管我们坚信铝作为 PVD 腔室首选材料的优势，但我们意识到使用不锈钢腔室有一些好处：

TAU UHV

4 袖珍迷你电子束源

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