晶圆表面测量系统产品信息

PVA TePla Wafer Surface Measurement System 可用于干法刻蚀、等离子体处理与表面清洗相关场景。当前页面根据公开资料整理设备名称、品牌型号、用途线索和选型沟通方向，便于客户进行型号检索、方案初筛和采购询价。

产品信息 特点一览 所有介质，从工艺化学品到 ICP-MS 校准，均由系统全自动提供。 全自动冲洗和清洁循环。 将污染和操作错误对人员和产品造成的风险降至最低。 降低人员成本：中央主机控制整个系统，可通过SECS/GEM对所有部件进行远程操作或控制，并提供实时结果。

选型沟通要点

• 确认样品类型、测试目标、工艺环节、通量要求和数据输出方式。
• 核对主机配置、附件、软件、耗材、安装条件和售后支持范围。
• 如用于替换或扩展平台，请同步现有设备型号、接口条件和现场空间要求。