SIRD SiC 200 扫描红外去偏振系统

SIRD SiC 200 扫描红外去偏振系统产品信息

PVA TePla SIRD SiC 200 可用于检测、量测、失效分析与晶圆测试相关场景。当前页面根据公开资料整理设备名称、品牌型号、用途线索和选型沟通方向，便于客户进行型号检索、方案初筛和采购询价。

产品信息 特点一览 应力测量晶圆级定量应力测量 宽掺杂范围 电阻率可低至 5.1 mOhm cm 的掺杂水平 自动化完全自动化，具有基于配方的测量和分析。 SECS/GEM 和 OHT 就绪。 不同的半导体材料碳化硅、氮化镓、硅、砷化镓、铟、磷化物、氮化铝等。 下载产品传单

选型沟通要点

• 确认样品类型、测试目标、工艺环节、通量要求和数据输出方式。
• 核对主机配置、附件、软件、耗材、安装条件和售后支持范围。
• 如用于替换或扩展平台，请同步现有设备型号、接口条件和现场空间要求。