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UV Light and Energy Meter for use with all wafer steppers
50 多年来，OAI 一直是紫外光和能量测量仪器领域的世界领先者，这些仪器用于对半导体、MEMS、晶圆封装和晶圆凸点行业的光刻工艺进行可靠、精确的校准控制。 659 型是一款先进的紫外线曝光分析仪，专门设计用于所有晶圆步进机，包括高强度晶圆步进机。该仪表可平均测量多达 400 个曝光读数，具有以太网和 USB 接口用于下载记录的测量结果，强度范围高达 7,500mW/cm2。探头的波长有 365nm、400nm、420nm 和 436nm。 OAI 拥有完整的、经过认证的校准实验室，以保持我们仪表的性能、质量和可靠性。 659 型仪表可追溯至 NIST 标准。
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50 多年来，OAI 一直是紫外光和能量测量仪器领域的世界领先者，这些仪器用于对半导体、MEMS、晶圆封装和晶圆凸点行业的光刻工艺进行可靠、精确的校准控制。 659 型是一款先进的紫外线曝光分析仪，专门设计用于所有晶圆步进机，包括高强度晶圆步进机。该仪表可平均测量多达 400 个曝光读数，具有以太网和 USB 接口用于下载记录的测量结果，强度范围高达 7,500mW/cm2。探头的波长有 365nm、400nm、420nm 和 436nm。 OAI 拥有完整的、经过认证的校准实验室，以保持我们仪表的性能、质量和可靠性。 659 型仪表可追溯至 NIST 标准。
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