Model C&D P9000 / OAI 6000: Integrated Lithography Cell
集群配置允许动态晶圆流和并行应用处理
科桥实验提供 OAI Model C&D P9000 / OAI 6000: Integrated Lithography Cell 在全国范围内的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务，价格面议。
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完全在美国制造
集群配置允许动态晶圆流和并行应用处理
单一终端控制配方和程序选择； P9000 作为主用户界面
光刻模块所需的操作员更少
减少晶圆处理：提高晶圆产量、减少污染和缺陷、提高芯片产量
与其他集成系统供应商相比，拥有成本更低，投资回报最大化
占地面积小，减少晶圆厂空间使用
可同时处理多种晶圆尺寸
针对客户需求进行优化
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