6020 型大型基板掩模对准机

Model 6020 Large Substrate Mask Aligner

大型基材曝光系统专为需要大型玻璃面板曝光的市场而设计。该系统采用 OAI 先进的光束光学器件，采用光束尺寸为 12in² 至 20in² 的 UV 光源，同时施加 1kW 至 8kW 的灯功率。这提供了 ±10% 的均匀光束。该系统可实现≤2.0μ的打印分辨率。该系统可以处理从薄到厚的各种基材厚度以及粘合面板。 OAI 的大型基材曝光系统是大面积玻璃面板曝光的性能、可靠性和可重复性的整体解决方案。

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