产品信息

OAI 2000 型曝光系统可配置为边缘珠曝光系统 (2000SM) 或泛光曝光系统 (2000AF)；两种配置均基于 OAI 经过时间考验的平台。

2000 型曝光系统的两个版本均包括 UV 光源、强度控制电源和机器人基板处理子系统。 UV 光源提供可调节的强度光束，发散半角 <2.0%。电源功率范围为 200W 至 2,000W。强度控制器传感器直接连接到光源，以实现精确的强度监控。机器人基板处理系统由微处理器控制，并且可以编程以适应各种基板尺寸。阴影掩模功能使用户能够在非常靠近掩模的情况下对基板的顶部进行图案化。在 25μ 的间隔下，这些系统能够实现 6μ 的分辨率。

在 SM 配置中，边珠曝光系统使用标准荫罩技术提供了一种经济高效的边珠去除方法。掩模和基板的更换可以快速、轻松地完成，从而增加了这种大批量生产工具的多功能性和产量。

在 AF 配置中，2000 型泛光曝光系统用于增强和/或增强生产和研发环境中的光刻工艺。应用包括光刻胶稳定和修改、图像反转和 PCM 工艺。