PULSION 等离子浸没离子注入系统

产品信息

等离子体浸没离子注入是一种多功能工艺

在微电子领域具有广泛应用的技术

加工与材料工程。

全晶圆同时注入

超低能量（低至 30 eV）

适形 3D 植入

用于高级逻辑和存储器的 3D 掺杂（FINFET、DTI、支柱...）

材料改性以定制应力、设计接触和 Vt、帮助工艺集成

DPG 应用需要非常高的剂量