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PULSION
等离子体浸没离子注入是一种多功能工艺
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等离子体浸没离子注入是一种多功能工艺
在微电子领域具有广泛应用的技术
加工与材料工程。
全晶圆同时注入
超低能量(低至 30 eV)
适形 3D 植入
用于高级逻辑和存储器的 3D 掺杂(FINFET、DTI、支柱...)
材料改性以定制应力、设计接触和 Vt、帮助工艺集成
DPG 应用需要非常高的剂量
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