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ENTRON-EXX
产品信息 蚀刻 蒸发 离子注入机 等离子灰化 PVD 集群系统 辊涂机在线系统 R&D 300mm 集群系统 辊涂机 在线系统 300毫米 真空炉 ENTRON-EXX 是一个多功能、多室平台,旨在支持各种尖端产品的生产,包括半导体逻辑、存储器(DRAM、NAND、下一代非易失性存储器)和封装。
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蚀刻
蒸发
离子注入机
等离子灰化
PVD 集群系统 辊涂机在线系统 R&D 300mm
集群系统
辊涂机
在线系统
300毫米
真空炉
ENTRON-EXX 是一个多功能、多室平台,旨在支持各种尖端产品的生产,包括半导体逻辑、存储器(DRAM、NAND、下一代非易失性存储器)和封装。通过集成各种工艺模块,如 PVD、预清洗、加热、冷却以及增强的数据收集和分析功能,ENTRON-EXX 为客户提供了优化的开发和批量生产环境。
ENTRON-EXX 专为下一代半导体创新而打造,是一款尖端的多室沉积平台,可提高生产力、灵活性和智能性。通过单机或串联配置,它可以最大化工厂空间并提高每平方英尺的吞吐量。其模块化架构允许您添加或交换多达 12 个 PVD、预清洗、加热或冷却模块,非常适合不断变化的工艺需求。
实时数据捕获和分析可以实现更智能的维护、提高产量和运营效率。此外,简化的插入式连接可将重新安置和设置时间缩短 50%,同时其环保设计可将待机功耗减少约 20%,并将洁净室占地面积缩小高达 10%。 ENTRON-EXX 为可扩展、可持续的溅射性能设定了标准。
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