产品信息

东邦HL9900

霍尔效应测量

HL9900 是一款交钥匙高性能霍尔效应系统，用于测量半导体中的电阻率、载流子浓度和迁移率。该系统采用模块化概念，可轻松升级，适用于多种材料，包括硅和化合物半导体。 HL9900 具有低电阻率和高电阻率测量功能。凭借直观的用户界面，无需任何编程经验即可设置或使用 HL9900。

内部独创 Nanometrics 核心技术

应用领域

使用霍尔效应测量，可以确定以下属性：

电阻率/电导率

移动性

体/片载流子浓度

掺杂类型

霍尔系数

磁阻

电阻纵/横比

特征

Van der Pauw、Hall Bar 和 Bridge 测量符合 ASTM F-76 标准

简单的探针系统可实现方便、快速的样品处理

紧凑的台式设计

宽电流范围，包括自动电流装置，以最大限度地减少样品加热

用户定义的电场限制以避免低温下的碰撞电离效应

可选的高阻抗缓冲放大器/电流源可将薄层电阻率测量扩展到 1011 Ω/平方

HL9950 - 可变温度装置