产品信息

MaskTrack Pro 系列旨在通过创新技术平衡 193i 1x nm 半节距 (hp) DPT、极紫外光刻 (EUVL) 和纳米印刷光刻 (NIL) 处理的最严格条件，以最大限度地提高掩模性能。

专为下一代光刻要求而设计

由于掩模完整性在先进光刻加工的成功中发挥着更大的作用，MaskTrack Pro 系列是唯一专门针对 EUVL 设计的平台。

它可扩展，允许与第三方产品进行工具集群，从而在完全受控和超洁净的环境中采用整体方法存储、处理和加工掩模。

凭借其最高的一次通过清洁率，MaskTrack Pro 系列已被公认为行业首选平台。

Masktrack Pro 系列专为无缝集成而设计，符合严格的行业标准。它符合 SEMI S2、S8 和 S13 标准，具有 CE 标志，专为 DIN EN ISO 14644 2 级受控环境而设计。配备标准 SECS/GEM 200/300 mm 接口，可立即实现工厂自动化。

适合半导体市场的需求

Masktrack Pro 系列的主要特点

A+ 喷嘴分配系统将显影剂均匀地分布在整个掩模上，以实现快速、均匀的表面润湿和介质交换 - 确保最小的缺陷和最佳的质量。

声流实现卓越显影：通过使用 MegaSonic 能量激发表面，ASONIC-Technology® 增加显影剂介质交换，实现均匀利用率和改进 CD 均匀性。

双兆频超声波和高压 Fulljet、刷子清洁以及原位 SC1/SPM、UV 干洗、超清洁 DI 工艺、背面冲洗和 ESD 安全选项：Masktrack Pro 系列提供符合现代洁净室要求的先进清洁技术。