产品信息

scia Opto 300 用于精密光学器件的均匀镀膜。凭借多达 6 个靶材进行灵活的多层沉积，甚至可以混合靶材材料。两个装载位置允许对基材进行连续且全自动的处理。带有集成测试玻璃更换器的光学原位监控可确保最高的精度和优化的涂层均匀性。

特点和优点

可变基材尺寸可达直径 300 毫米。

自动装载，具有两个装载位置，可连续加工

可旋转滚筒上最多可容纳 6 个目标材料，每个目标尺寸最大为 300 毫米 x 300 毫米，具有优化的几何形状，可实现混合层或层之间的平滑过渡

通过高达 60 rpm 的基材旋转实现出色的工艺均匀性

原位光学厚度监测仪 (OTM) 和测试玻璃更换器

优化几何形状，实现低应力涂层

前视图

后视图

应用领域

应用示例：由 Ta2O5 组成的多层堆叠的抗反射涂层

TGG 上的 SiO2，设计为对于 633 nm 的典型激光线是透明的

和 1064 nm |左图：层堆栈的结构|右图：采用椭偏仪透射模式测量的透射光谱。可以达到反射率的目标值。

介电镜（例如梳状滤光片）

用于高反射层和抗反射层、带通滤波器和陷波滤波器的光学涂层

高激光损伤阈值涂层

折射率梯度层的沉积

基材的原位预处理（蚀刻、清洁、平滑）

金属、种子和保护涂层

原则

主要源将材料从靶材溅射到面朝下定向的基板上

用于预清洁基材和/或在沉积过程中提供辅助的辅助源

离子束溅射（IBS），即用离子束从靶材溅射出材料并将其沉积在基板上。

双离子束溅射 (DIBS) 使用额外的辅助离子束源来影响生长的薄膜。

离子束溅射

双离子束溅射

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