产品信息

scia Magna 系列包括先进的磁控溅射系统，专为在光学基材上进行高精度多层镀膜而设计，可实现（亚）纳米精度。每个系统最多可配备六个磁控管，从而可以在不破坏真空的情况下沉积不同靶材料的复杂多层堆叠。该系统支持以相同的效率沉积金属、氧化物和氮化物层。

scia Magna 400 Inline、scia Magna 500 Inline、scia Magna 700 Inline 和 scia Magna 1200 Inline 配备自动基材处理功能，可实现全自动、配方驱动的处理。精确、位置控制的基板运动可实现确定的梯度层和卓越的沉积均匀性。

特点和优点

具有多个工艺源在线排列的多层涂层

通过同步线性运动和旋转旋转在光学基材上形成均匀或梯度薄膜

多达 6 个磁控溅射源

可选用离子源或附加离子束源进行表面处理

垂直基板方向可最大限度地减少颗粒负载

应用领域

用于布拉格镜的 (Si/Mo)23 交替堆叠。结果显示每个时期的厚度具有非常可重复性。

EUV 反射镜的梯度多层镀膜

用于光束线和分析应用的 X 射线镜多层堆叠

用于紫外和可见光光学器件的多层镀膜

原则

内联排列有 6 个磁控溅射源

线性基材移动经过磁控管和叠加基材旋转

磁控溅射利用等离子体离子轰击靶材在基材表面沉积薄膜。

详细信息

基材尺寸（最大）

溅射源

溅射模式

典型沉积速率

预清洗源

基础压力

系统尺寸（宽x深x高）

配置

软件界面

伸出手