产品信息

scia Cluster 200 是一个模块化平台，用于基于先进离子束和等离子体技术的涂层、蚀刻和清洁工艺。集群使用多个相同的工艺室来显着提高产量，或者集成不同的工艺技术，在单个晶圆上实现连续的工艺步骤，而无需破坏真空。

scia Cluster 200 系统可以针对每个客户的应用进行单独配置，允许在中央传输室周围安装最多五个处理室和一到两个负载锁。

集群系统的好处

模块化平台，在一个系统或多个相同的工艺室中具有多个工艺

最高的灵活性，从广泛的技术组合中选择深度定制的解决方案

可扩展的平台，具有单独的腔室数量，可提高吞吐量和高效生产

通过连续工艺链，无需真空中断，减少污染并缩短总周期时间

占地面积更小，公用设施消耗更少，总体拥有成本更低

易于使用的软件，用于基于配方的集中跨室处理，提高效率和灵活性

你有选择

多进程集群

具有不同工艺的多个工艺室

具有成本效益和可扩展的生产，具有高一致性和效率

多个流程步骤可以在平台上顺序或并行运行

减少基材移动造成的污染，无需暴露在空气中

减少加工时间并提高产量

scia Cluster 200 - 一体化多进程集群解决方案

单进程集群

所有处理室执行相同的处理

适用于需要关键正常运行时间和吞吐量的流程的高可靠性和批量生产

通过多个室同时处理提高吞吐量

过程质量和均匀性的一致性

单进程集群适用于我们所有的核心技术

核心技术模块

（双）离子束沉积（DIBD）

金属、介电材料和多层膜的致密、均匀、无缺陷涂层

磁控溅射

压电层、电极材料和电绝缘体的精确高效沉积