设备资源
正在整理可询价设备
同步核对品牌、型号、图片和应用方向，保持产品浏览与询价路径清晰。
实验室仪器半导体设备型号检索
设备详情
准备主图、规格、应用信息和相关设备入口，方便继续核对型号。
PD-3800L
PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。 该系统由于采用了大型反应室，并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理，因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜，具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
科桥实验提供 Samco PD-3800L 的型号核对、选型咨询、报价沟通、采购支持、安装培训和售后协同服务。
微信扫码咨询
扫码添加技术顾问，发送产品型号、设备图片或应用需求。
PD-3800L是一种能够沉积硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的锁载等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统。 该系统由于采用了大型反应室，并通过载盘装载多片晶圆进行批量处理，因此产量较高。在直径360mm的区域内可以沉积出具有优异的厚度均匀性和应力控制的薄膜，具有优异的稳定性和可重复性。用户友好的触摸屏界面用于参数控制和配方存储。该系统是大规模生产用薄膜沉积的理想选择，具有优异的重复性。
自动传送装置(从盒式装载到ø360毫米的托架上)
请填写必填信息，我们将在工作日尽快回复。