ALD设备 AD-10P

ALD设备 AD-10P产品信息

Samco AD-10P 可用于薄膜沉积、外延与真空镀膜相关场景。当前页面根据公开资料整理设备名称、品牌型号、用途线索和选型沟通方向，便于客户进行型号检索、方案初筛和采购询价。

主要特点和优点 原子层级的均匀薄膜控制。 高深宽比结构的共形沉积。 卓越的平面内均匀性和重复性。 腔室设计侧重于最大限度地减少颗粒产生。 应用 电子设备的栅绝缘体。 半导体、有机EL等的钝化膜。 半导体激光器的反射面。 MEMS等三维结构上的沉积。

选型沟通要点

• 确认样品类型、测试目标、工艺环节、通量要求和数据输出方式。
• 核对主机配置、附件、软件、耗材、安装条件和售后支持范围。
• 如用于替换或扩展平台，请同步现有设备型号、接口条件和现场空间要求。