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PlasmaPro 100 Estrelas DRIE
Oxford Instruments PlasmaPro 100 Estrelas DRIE 深反应离子刻蚀系统。PlasmaPro 100 Estrelas deep reactive ion etching (DRIE) system provides the ability to run Bosch™ and Cryo processes in the same chamber. Suitable for MEMS, Advanced Packaging and Nanotechnology markets.
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Oxford Instruments PlasmaPro 100 Estrelas DRIE 深反应离子刻蚀系统。PlasmaPro 100 Estrelas deep reactive ion etching (DRIE) system provides the ability to run Bosch™ and Cryo processes in the same chamber. Suitable for MEMS, Advanced Packaging and Nanotechnology markets.
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