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PlasmaPro 80 ICP RIE
Oxford Instruments PlasmaPro 80 ICP RIE 反应离子刻蚀系统。The PlasmaPro 80 ICP RIE is a compact, small footprint system offering versatile open load ICP etching solutions with convenient open loading. It is easy to site and easy to use, with no compromise on process quality.
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Oxford Instruments PlasmaPro 80 ICP RIE 反应离子刻蚀系统。The PlasmaPro 80 ICP RIE is a compact, small footprint system offering versatile open load ICP etching solutions with convenient open loading. It is easy to site and easy to use, with no compromise on process quality.
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