产品信息

DLI-CVD 系统

用于研发的 200 mm DLI-CVD 和 ALD 系统

MC-200

MC-200 是一款用于研发的 200 mm DLI-CVD/ALD 系统

MC-200 是一款多功能沉积系统，可以在同一处理室内进行金属有机化学气相沉积 (MOCVD) 和原子层沉积 (ALD)。

简单和多金属氧化物

金属、氮化物和合金

III-V族，宽带隙半导体

2D 和 3D 材料

ETC。